服務類別
半導體前段製程
離子注入、化學氣相沉積 (CVD) 與乾式刻蝕系統配套。確保製程腔體在極高真空下的穩定性與潔淨度。
- 2nm 節點 ALD 系統
- 超高真空離子源
- 晶圓傳輸真空室
光學鍍膜工程
濾光鏡片、高反射鏡與抗反射膜的大規模連續生產線。提供精確的沉積速率監控與多層膜厚度控制。
- 磁控濺鍍生產線
- 電子束蒸鍍設備
- 光學監控系統 (OMS)
大科學裝置支持
為同步輻射加速器、聚變實驗裝置提供的定製真空室工程。滿足極端物理實驗對真空環境的嚴苛要求。
- 同步輻射光束線真空
- 低溫超導真空吊架
- 大型空間模擬器
實績方案卡
Case Study 01
量子計算機超低溫真空吊架
為 10mK 等級量子處理器開發的超高真空絕熱系統，實現了極低的熱輻射洩漏與極限真空度。
Case Study 02
8 吋晶圓 ALD 量產機台
成功交付某頂尖晶圓代工廠，實現了高深寬比溝槽的原子級均勻沉積，產能提升 30%。